レーザーアブレーションを利用した
無機機能材料調製法の新展開

主催：工業技術院　物質工学工業技術研究所

共催：化学・バイオつくば財団

協賛：(社)応用物理学会
(社)日本金属学会
(社)レーザー学会
(社)電気化学会
(社)日本セラミックス協会
（順不同）

開催日時:平成１１年　８月　４日(水)　　　　13:30-16:45

開催場所:物質工学工業技術研究所研究本館1号館６階会議室

｢プログラム」 13:30-14:00 レーザーアブレーションによるシリコンナノ微粒子の作製と可視発光 牧村　哲也（筑波大学物理工学系） 14:00-14:30 高速回転ターゲットを用いたPLD法における微粒子の低減 中田　芳樹（九州大学大学院システム情報科学研究科） 14:30-15:00 レーザーアブレーションによる鉄薄膜の形成 大越　昌幸（豊橋技術科学大学第3工学系） 15:15-15:45 希ガス雰囲気パルスレーザーデポジション法による酸化インジウム薄膜の作製および評価 山田　由佳（松下技研超機構研究所） 15:45-16:15 金属酸化物薄膜の塗布レーザー光分解法による調製 土屋　哲男（物質工学工業技術研究所） 16:15-16:45 ＰＬＤ法によるナノコンポジット薄膜の調製 佐々木　毅（物質工学工業技術研究所）

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