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20世紀は電子，21世紀は光の時代といわれている。放射光を用いれば，従来の光と比べ桁違い（104〜106)に強い光が得られる。本研究では，プローブとして放射光より得られる高輝度・高分解能の軟Ｘ線ビームを，物質表面および表面吸着種の上に入射し相互作用で発生する電子，イオンなどを検出することにより，表面の構造およひ機能を解析する新しい技術を開発することを目的としている。
研究には，当所が高エネルギー物理学研究所と協力して開発した放射光施設の高輝度・高分解能の歎Ｘ線ピームラインおよび解析・評価システムが用いられる。軟Ｘ線ピームの入射エネルギーは200eVから1000eVまで変えることが可能である。入射Ｘ線と物質表面および表面吸着種との相互作用により得られた光電子スペクトル，Ｘ線吸着スペクトルなどを解析することにより，表面構造および表面での触媒機能の発現挙動が解明可能となる。また，入射エネルギーが可変であるメリツトを生かし，内殻励起の新しい化学反応についても検討を行つている。 本研究により新しい表面解析・制御技術が確立されれば，物買の表面構造と表面機能の相関について多くの情報が得られ，学問体系に墓づいた新しい表面機能材料，例えば，従来の触媒と比べ飛躍的に活性の高い新しい触媒の設計も可能になると期待されている。
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